GUARDIAN F型WBW式-100.jpg

<説明>
東京ガス株式会社、東京ガスケミカル株式会社、小池酸素工業
株式会社の3社は、半導体・液晶パネル製造におけるドライ
エッチング工程で使用される温室効果ガスの
PFC(パーフルオロカーボン)、とりわけ分解困難なCF4を
ターゲットとして共同開発に取り組み、CF4を極限まで分解す
る燃焼式排ガス処理装置”GUARDIAN-F型"の開発に成功しまし
た。さらに、この”WBW式”は燃焼器の前段に水スクラバーを
導入したことで、エッチングで発生する生成物を燃焼前に取り
除き、長いメンテナンスサイクルと清掃時間の短縮を実現しま
した。

<特徴>
・高温燃焼可能なバーナーと燃焼室
 CF4を99%以上分解する高い分解効率
 卓越した高温技術
 安価なランニングコスト
・優れた粉体処理
 前段スクラバー搭載
 メンテナンス容易
 長いメンテナンスサイクル
・徹底した腐食対策
 部位に応じた耐熱・耐食材料・コーティング
・上位装置に合わせたマルチポートに対応
 1~3ポート (3ポート以上はご相談ください)

機種 GVF-4WBW
N2含む最大処理量(SLM)※1 200
燃料LNG流量(SLM)※1 50
プロセスガス導入口 ※2 NW40×3
筐体寸法 幅 (mm) 1800
奥行 (mm) 1100
高さ (mm) 2100
重量(kg) 1300
※1 処理対象ガスの種類によって変わります。
※2 他のサイズや数にも対応できますのでご相談ください。

<主な用途>

 半導体・液晶パネル製造のドライエッチング等の

 プロセスガスの除害



<処理対象ガス>

 CF4,C2F6等のPFC

 SF6,Cl2,SiF4等

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